Foil tantalum para la investigación científica

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. supplies high-quality rare metals, mainly including niobium hafnium alloy 103, tungsten, tantalum, niobium, hafnium, titanium, zirconium, nickel, vanadium and alloys of conventional processed profiles such as plates, strips, coils, rods, wires, pipes, as well como productos procesados ​​profundos, como barcos, crisoles, objetivos de pulverización, objetivos de recubrimiento, piezas mecanizadas, pantallas de aislamiento de horno de alta temperatura, elementos de calefacción, cuerpos de horno (hornos de calefacción, hornos de recocido), equipos resistentes a la corrosión, etc.

Como fabricante, proveedor y exportador de Tantalum, proporcionamos productos especializados de alta pureza, resistentes a la alta temperatura, resistente a la corrosión, aeroespacial, de defensa, militar y marina. El servicio al cliente siempre está en línea, por lo que no tiene preocupaciones.
 

Ventajas y características

 

 

Estabilidad química

El aluminio tantalum tiene propiedades químicas estables a temperatura ambiente, especialmente que exhiben una excelente resistencia a la corrosión en ambientes ácidos.

Excelentes propiedades mecánicas

La aluminio tantalum tiene una buena ductilidad y alta resistencia, y puede soportar ciertas tensiones mecánicas.

Rendimiento eléctrico estable

Tantalum Foil tiene un rendimiento eléctrico estable y es adecuado para la investigación y fabricación de componentes electrónicos de alta precisión.

Foil tantalum de grado de investigación (pureza mayor o igual a 99.95%) tiene un punto de fusión ultra alto (2996 grados), baja sección transversal de absorción de neutrones térmicos (4.8b) y superplasticidad (alargamiento hasta 300%). Su constante dieléctrica de película de óxido de superficie (ε =27) es 2.3 veces mayor que el de grado industrial. La lámina de 0.025 mm ultra tantalum producida por Johnson Matthey en los Estados Unidos tiene un tamaño de grano controlado por debajo de 5 μ my una resistencia de rendimiento (180MPA) reducida en un 40% en comparación con los materiales de aluminio estándar, lo que lo hace más adecuado para el procesamiento de micro nano.

In the EAST tokamak device, 0.1mm thick tantalum foil is used as the first wall material of the polarizer, which has a plasma shock resistance of 10MW/m ² and a sputtering rate 70% lower than tungsten. Experiments conducted by the Max Planck Institute for Plasma Research in Germany have shown that tantalum foil maintains its structural integrity after 2000 thermal cycles (Δ T=1500 ℃), with a surface erosion depth of only 3.2 μ m, significantly better than graphite materials (erosion depth>50 μ m).

La (110) lámina de tantalum de la cara de cristal (ra<0.2nm) developed by JEOL Corporation in Japan has a lattice constant (0.330nm) that matches most transition metal thin films by 98% when used as an STM/AFM observation substrate. In 2024, a team from Tsinghua University successfully observed the migration process of sulfur vacancies in single-layer molybdenum disulfide using this tantalum foil, and the research results were published in Nature Materials.

The 20 μ m tantalum foil strain gauge developed by the Chinese Academy of Sciences has a temperature coefficient of resistance (TCR) fluctuation of less than 0.5% at 2000 ℃, and is used for monitoring the combustion chamber pressure of the Long March 9 engine. The data sampling frequency has been increased to 10kHz. Comparative experiments show that its lifespan (>500 horas) en un entorno de llama de oxígeno de hidrógeno es 8 veces mayor que los de los termopares de rodio platino.

El NIST en los Estados Unidos utiliza el 99.999% de lámina de tantalio puro para preparar bits cuánticos superconductores, con una capa dieléctrica de óxido de óxido superficial (TA ₂ O ₅) pérdida dieléctrica tan baja como 10 ⁻⁷, lo que permite el tiempo de coherencia cuántica excede los 300 μ s. La cavidad superconductora 3D hecha por IBM utilizando aluminio tantalum anodizado tiene un valor de factor de calidad Q de 5 × 10 ⁸, estableciendo un registro para el rendimiento del resonador de microondas.

El monocromador de lámina Tantalum (espesor de 50 μm) de la fuente de luz de Shanghai tiene una eficiencia de reflexión del 85% en la banda de rayos X de 15kev y una capacidad de carga térmica 20 veces mayor que la de los cristales de silicio. Los datos de prueba de ESRF europeo muestran que la deriva del punto causada por la deformación térmica es inferior a 0.1 μ RAD, lo que cumple con los requisitos de resolución sub nanométrica.

La lámina de tantalum se ha convertido en un material irremplazable en campos de vanguardia como la fusión nuclear, la computación cuántica y la ciencia de la superficie debido a su resistencia a la temperatura ultra alta, una planitud de superficie de nivel atómico y una microestructura controlable. Desde la resistencia al choque en plasma del dispositivo este hasta la observación a nivel atómico de materiales de una sola capa, sus ventajas de rendimiento han sido verificadas por los principales laboratorios en todo el mundo.

Con el estallido de demandas emergentes, como los materiales objetivo de semiconductores y los nuevos dispositivos de energía, la industria del aluminio Tantalum se está transcurriendo hacia la funcionalización a nanoescala y los procesos de preparación verde. Las empresas chinas han ocupado el terreno tecnológico en el diseño de toda la cadena de la industria. En el futuro, Tantalum Foil continuará liberando el valor de la investigación científica en campos como materiales ambientales extremos y dispositivos superconductores de próxima generación.

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